隨著半導體製程持續微縮，GlobalFoundries、英特爾(Intel)、三星電子(Samsung Electronics)和台積電都規劃在7奈米或5奈米製程導入極紫外光(EUV)微影技術。由於新技術需要使用多重電子束繪製光罩以取得成本效率與時間的平衡，目前有能力提供相關設備的供應商分別為2016年被英特爾收購的IMS Nanofabrication與N......
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